典型工艺流程简介:
1.预处理→一级反渗透→二级反渗透→纯水箱→纯水泵→用水点
(产水电阻率大于0.5 MΩ.cm)
2. 预处理→反渗透→纯化水箱→离子交换器→纯水泵→用水点?
(产水电阻率大于10 MΩ.cm)
3.预处理→一级反渗透→二级反渗透→EDI装置→纯化水箱→纯水泵→用水点
(产水电阻率大于15 MΩ.cm)
4.预处理→一级反渗透装置→二级反渗透装置→中间水箱→紫外除T0C装置→脱
气装置→EDI装置→紫外除T0C装置→脱气装置→氮封纯水箱→双级抛光混床→终
端超滤装置→用水点(产水电阻率大于18 MΩ.cm)
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